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关于液晶 物质有三种形态：固态、液态和气态。 1888年，澳大利亚植物学者莱尼茨尔（Reinitzer）研究胆甾醇在植物中的作用时，用胆甾基苯进行试验，无意间发现了液晶，但液晶的实际应用直到二十世纪五十年代才开始。 顾名思义，液晶是固液态之间的一种中间类状态。 液晶是一种有机化合物，在一定的温度范围内，它既具有液体的流动性、粘度、形变等机械性质，又具有晶体的热（热效应）、光（光学各向异性）、电（电光效应）、磁（磁光效应）等物理性质。 光线穿透液晶的路径由构成它的分子排列所决定。人们发现给液晶充电会改变它的分子排列，继而造成光线的扭曲或折射。 液晶按照分子结构排列的不同，分为三种：晶体颗粒粘土状的称为近晶相（Smectic）液晶、类似细火柴棒的称为向列相（Nematic）液晶、类似胆固醇状的称为胆甾相（Cholestic）液晶。这三种液晶的物理特性都不尽相同，用于液晶显示器的是第二类的向列相（Nematic）液晶。 LCD的原理 只有先认识了它的结构和原理，了解了它的技术和工艺特点，才能在选购时有的放矢，在应用和维护时更加科学合理。液晶是一种有机复合物，由长棒状的分子构成。在自然状态下，这些棒状分子的长轴大致平行。LCD第一个特点是必须将液晶灌入两个列有细槽的平面之间才能正常工作。这两个平面上的槽互相垂直(90度相交)，也就是说，若一个平面上的分子南北向排列，则另一平面上的分子东西向排列，而位于两个平面之间的分子被强迫进入一种90度扭转的状态。由于光线顺着分子的排列方向传播，所以光线经过液晶时也被扭转90度。但当液晶上加一个电压时，分子便会重新垂直排列，使光线能直射出去，而不发生任何扭转。LCD的第二个特点是它依赖极化滤光片和光线本身，自然光线是朝四面八方随机发散的，极化滤光片实际是一系列越来越细的平行线。这些线形成一张网，阻断不与这些线平行的所有光线，极化滤光片的线正好与第一个垂直，所以能完全阻断那些已经极化的光线。 只有两个滤光片的线完全平行，或者光线本身已扭转到与第二个极化滤光片相匹配，光线才得以穿透。LCD正是由这样两个相互垂直的极化滤光片构成，所以在正常情况下应该阻断所有试图穿透的光线。但是，由于两个滤光片之间充满了扭曲液晶，所以在光线穿出第一个滤光片后，会被液晶分子扭转90度，最后从第二个滤光片中穿出。另一方面，若为液晶加一个电压，分子又会重新排列并完全平行，使光线不再扭转，所以正好被第二个滤光片挡住。总之，加电将光线阻断，不加电则使光线射出。当然，也可以改变LCD中的液晶排列，使光线在加电时射出，而不加电时被阻断。但由于液晶屏幕几乎总是亮着的，所以只有"加电将光线阻断"的方案才能达到最省电的目的。 LCD的分类 可以将LCD分为被动技术和主动技术两种，代表性的产品分别是DSTN（double-layer supertwist nematic双层超扭曲向列相液晶）和TFT（thin film transistor薄膜晶体管）。 DSTN一直是被动式笔记本显示器的标准，HPA和CSTN则是被动技术的最新改进。HPA也被称为高性能定址或快速DSTN。HPA和CSTN皆比DSTN提供了更好的对比度和亮度。CSTN的反应时间现在已下降到100ms，并提供140度视角。 DSTN是由超扭曲向列型显示器（STN）发展而来的，由于DSTN采用双扫描技术，因而显示效果较STN有大幅度的提高。笔记本电脑刚出现时主要是使用STN。STN的反应时间较慢，一般为300ms左右，用户能感觉到拖尾（余辉）。由于DSTN 分上下两屏同时扫描，所以在使用中有可能在显示屏中央出现一条亮线。 主动矩阵显示屏通过薄膜晶体管直接寻址，这也是该技术名称的由来，即TFT（薄膜晶体管）。TFT属于有源矩阵液晶显示器中的一种，反应时间大大提高，已达到25ms。其具有更高的对比度和更丰富的色彩。相对DSTN而言，TFT的主要特点是每个像素都配置一个半导体开关器件，其加工工艺类似于大规模集成电路。由于每个像素都可通过点脉冲直接控制，因而每个节点相对独立，并可连续控制，这样不仅提高了反应时间，同时在灰度控制上可以非常精确，这就是TFT色彩较DSTN更为逼真的原因。目前绝大部分笔记本电脑厂商的主流产品都是采用TFT显示屏。 LCD和CRT（传统显示器）的比较以及购买时的注意事项 LCD的工作原理我们介绍过了，那么再介绍一下CRT，然后我们好比较。CRT的工作原理是由灯丝、阴极、控制栅组成电子枪，通电后灯丝发热，阴极被激发，发射出电子流，电子流受到带有高电压的内部金属层的加速，经过透镜聚焦形成极细的电子束，打在荧光屏上，使荧光粉发光。电子束在偏转线圈产生的磁场作用下，可以控制其射向荧光屏的指定位置，电子束打在荧光屏上后会形成一个发光点，若干个发光点就可以组成图象。RGB三色荧光点被不同强度的电子束击中，就会产生各种色彩，通过控制电子束的强弱和通断，则可以形成各种绚丽多彩的画面。一般荫罩式显像管的内部有一层类似筛子的网罩，电子束通过网眼打在呈三角形排列的荧光点上，三把电子枪分别对应RGB三色，所以叫做"三枪三束"显像管。荫栅式显像管(例如特丽珑与钻石珑)的原理也是一样，只不过此类显像管的网罩是将许多光栅纵向固定在框里形成的。 接下来就是详细介绍它们的不同之处了: 分辨率 分辨率是一个非常重要的性能指标。它指的是屏幕上水平和垂直方向所能够显示的点数（屏幕上显示的线和面都是由点构成的）的多少，分辨率越高，同一屏幕内能够容纳的信息就越多。对于一台能够支持1280x1024分辨率的CRT来说，无论是320x240还是1280x1024分辨率，都能够比较完美地表现出来（因为电子束可以做弹性调整）。但它的最大分辨率未必是最合适的分辨率，因为如果17寸显示器上到1280x1024分辨率的话，WINDOWS的字体会很小，时间一长眼睛就容易疲劳，所以17寸显示器的最佳分辨率应为1024x768。 但对LCD来说则不然。LCD的最大分辨率就是它的真实分辨率，也就是最佳分辨率。一旦所设定的分辨率小于真实分辨率（比如说15寸LCD，其真实分辨率为1024x768，而WINDOWS中设定分辨率为800x600）的话，将有两种显示方式。一是居中显示，只有LCD中间的800x600个点会显示图象，其他没有用到的点不会发光，保持黑暗背景，看起来画面是居中缩小的。另一种是扩展显示，这种方式会使用到屏幕上每一个像素，但由于像素很容易发生扭曲，所以会对显示效果造成一定影响。所以说无论如何在选择LCD时要注意分辨率不是越大越好而是适当好用。 刷新率 对于CRT来讲，屏幕上的图形图像是由一个个因电子束击打而发光的荧光点组成，由于显像管内荧光粉受到电子束击打后发光的时间很短，所以电子束必须不断击打荧光粉使其持续发光。电子枪从屏幕的左上角的第一行（行的多少根据显示器当时的分辨率所决定，比如800X600分辨率下，电子枪就要扫描600行）开始，从左至右逐行扫描，第一行扫描完后再从第二行的最左端开始至第二行的最右端，一直到扫描完整个屏幕后再从屏幕的左上角开始，这时就完成了一次对屏幕的刷新，周而复始。这样我们就能够理解，为什么显示器的分辨率越高，其所能达到的刷新率最大值就越低。一般来讲，屏幕的刷新率要达到75HZ以上，人眼才不易感觉出屏幕的闪烁，CRT显示器的刷新率是由其行频和当时的分辨率决定的，行频越高，同一分辨率下的刷新率就越高；而行频一定的情况下，分辨率越高则它所能达到的刷新率越低。对于LCD来说则不存在刷新率的问题，它根本就不需要刷新。因为LCD中每个像素都在持续不断地发光，直到不发光的电压改变并被送到控制器中，所以LCD不会有"不断充放电"而引起的闪烁现象。 视角 目前大多数纯平显示器的视角都能达到180度，也就是说，从屏幕前的任意一个方向都能清楚地看到所显示的内容。而LCD则不同，它的可视角度根据工艺先进与否而有所不同，部分新型产品的可视角度已经能够达到160左右，跟CRT的180度已经非常接近。也有一些LCD虽然标称视角为160度，但实际上却达不到这个标准。用户在使用过程中一旦视角超出其实际可视范围，画面的颜色就会减退、变暗，甚至出现正像变成负像的情况。很可能大家为飞利浦的广告所迷惑其实LCD的视角并不是很大，反而比CRT的小许多，是一个明显比CRT弱的地方，所以不用担心被同事看见小笨熊的爱称。当然如果厂商将产品中加上增加视角的技术的话情况会好一点。下面介绍一下。 TN+Film（TN+视角扩大膜）技术 从结构上来讲，液晶显示器使用了"液晶"作为显示材料。液晶是一种介于固态和液态之间的物质，在一定的温度下会呈现出透明的液体状态，而冷却以后又会变成带结晶颗粒的混浊固体状态。液晶按照分子结构排列的不同分为三种：类似粘土状的Smectic液晶、类似细火柴棒的Nematic液晶、类似胆固醇状的Cholestic液晶，。这三种液晶的物理特性都不尽相同，通常用于液晶显示器的是第二类的Nematic液晶，采用此类液晶制造的液晶显示器也就称为LCD（Liquid Crystal Display）。 普通液晶屏上层的液晶分子的排列是横向的，下层的液晶分子排列是纵向的，而位于上下层之间的液晶分子接近上层的就呈横向排列，接近下层的则呈纵向排列。整体看起来，液晶分子的排列方式就像是一个螺旋形的旋转排列，但是基于TN+视角扩大膜技术的液晶显示器的液晶分子是垂直于显示屏排列的，这样在上层的表面加一层特殊的薄膜即可增加可视的角度。 从技术上来讲，该技术是基于较成熟的标准TFT-Twisted Nematic（扭转向列式）液晶技术发展起来的。只要在基板的上表面加上一层特殊的薄膜（转向膜）就可以将水平视角从90度增加到140度。该技术的优点不言而喻，那就是相对的廉价和发展较为成熟的技术，成品率高。但是该技术的缺点也同样明显，就是对对比度较低和响应速度较慢的固有缺点仍没有质的改变 旭达超声波化工、锅炉行业的应用 在化工行业中,有大量的管道及换热器设备.这些设备长期使用后管闭存在着严重的结垢问题,轻则影响换热效率及增大流动阻力,严重的会造成管道堵塞从而造成事故.传统方法是定期(半年或一年)进行清洗,一般采用化学清洗剂反复循环清洗,不但清洗时间长,成本高,而且必须停产,如果在这些管道中引入超声波,由于超声波在液体中的空化作用使污垢不易在管壁上沉积,并使旧垢疏松从管壁上脱落,被流体带走,因此能大大延长设备使用寿命,减少清洗次数(使清洗周期延长3-5倍),节约了大量清洗费用,并且使用小功率超声波即能达到这一目的,不会影响生产 旭达超声波清洗ITO表面处理方法 摘 要：不同的表面处理会影响ITO薄膜的光学和电学性能，并对整个OLED器件的效率和寿命产生影响。因此需要通过表面性能。本文介绍了几种常用的表面处理方法，并对各种处理方法进行比较。 关键字：氧化铟锡：表面处理：有机发光二极管 中图分类号：TN1004.3 文献表识码：B 1 旭达超声引言 应用于彩色显示器的有机发光器件（OLED）具有优秀的图象质量，特别是在亮度以及对比度等方面。近十年来，对OLED的研究得到广泛的关注，对未来的图象显示技术带来无法估量的冲击。OLED器件的性能与空穴注入过程有非常密切的关系，通过使用锡掺杂氧化铟（ITO）做OLED的阳极。 ITO具有低电阻率、高可见光率和高红外光反射率等优良特性，已经被广泛应用于固态平板显示器件。ITO的导带主要由In和Sn的55轨道组成，价带由氧的2S轨道占主导地位。氧空位及Sn取代掺杂原子，构成施主能级并影响导带中的载流子浓度。在ITO淀积过程中，由于薄膜中产生氧空位和Sn搀杂取代，形成高度简并的n型半导体。费米能级位于导带底之上，因而具有很高的载流子浓度及低电阻率。此外，ITO的带隙较宽，因而ITO薄膜对可见光和近红外光具有很高的透过率。但是，由于ITO属于非化学计量化合物，喷涂法、真空蒸发、化学气相淀积、反映离子注入以及磁控溅射等沉积方法、沉积条件，以及表面处理方法，都将影响ITO薄膜的性能，导致ITO表面功函数在4~5eV之间变化。目前，ITO玻璃的生产已经商业化，想要改善OLED的性能，需要对ITO的表面进行处理，使之适应有机物薄膜。 2 旭达超声表面处理对ITO表面性能的影响 下面从电学及表面性质两个方面，讨论ITO表面处理的作用以及对OLED性能的影响。 2.1旭达超声 表面处理对ITO表面性能的影响 ITO阳极是OLED光出射面，粗糙的ITO表面将使光线发生漫反射，减少出射光的强度，降低OLED的外量子效率。粗糙的ITO表面会影响OLED的内场分布，ITO表面的局部高场会加速有机材料老化，从而降低器件的寿命和稳定性。 2.2 旭达超声表面处理对ITO电性能的影响 OLED是空穴注入限制器件，空穴注入的数目直接影响整个器件的性能。通过改变表面的In、O、Sn及表面C污染物的含量，可以提高表面功函数，减小空穴注入的势垒，提高空穴注入的数目。ITO是n型半导体，由重搀杂的Sn4+以及氧空位提供电子，当减少这两种成份在表面的含量时间，表面功函数就会降低。 3 旭达超声ITO表面处理方法 常用的ITO表面处理方法有超声波抛光、超声波清洗、机械抛光处理、酸碱处理、等离子处理及以上各种方法的结合。在进行表面处理之前，要对ITO基片进行清洗，依次用去离子水、丙酮、无水醇超声清洗各30分钟后，再用纯氮气吹干。下面详细说明各种表面处理方法。 3.1旭达超声 ITO表面处理方法 固体表面的结构和组成都与内部不同，处于表面的原子或离子表现为配位上的不饱和性，这是由于形成固体表面时被切断的化学键造成的。正是由于这一原因，固体表面极易吸附外来原子，使表面产生污染。因环境空气中存在大量水份，所以水是固体表面最常见的污染物。由于金属氧化物表面被切断的化学键为离子键或强极性键，易与极性很强的水分子结合，因此，绝大多数金属氧化物的清洁表面，都是被水吸附污染了的。在多数情况下，水在金属氧化物表面最终解离吸附生成OH-及H+，其吸附中心分别为表面金属离子以及氧离子。 根据酸碱理论，M+是酸中心，O-是碱中心，此时水解离吸附是在一对酸碱中心进行的。在对ITO表面的水进行解离之后，再使用酸碱处理ITO金属氧化物表面时，酸中的H+、碱中的OH-分别被碱中心和酸中心吸附，形成一层偶极层，因而改变了ITO表面的功函数。 3.2 等离子体处理 等离子体通常使用图3所示的设备进行工作。将基片放在底座上，在真空系统中通入不同的混合气体，并在金属电极上家射频电压将气体电离，形成等离子体，以非常快的速度轰击ITO基片。为了形成较均匀的电场，电极采用金属栅网结构。等离子体的作用通常是改变表面粗糙度和提高功函数。研究发现，等离子作用对表面粗糙度的影响不大，只能使ITO的均方根粗糙度从1.8nm降到1.6nm，但对功函数的影响却较大。用等离子体处理提高功函数的方法也不尽相同。氧等离子处理是通过补充ITO表面的氧空位来提高表面氧含量的。氧同表面有机污染物反应生成CO2和H2O，去除了表面有机污染物。SF6通过在ITO表面形成一层含氟层来提高表面功函数，对粗糙度的改变不明显。Ar等离子处理是通过除区在装载基片过程中吸附的氧来清洁ITO表面的。 3.3 机械抛光 用大量Al2O3微粉状喷丸流高速喷向ITO表面，借助其动能将表面层的微观凸起部位削平或压平，以实现抛光的目的。此法操作简单，表面微观型貌良好，无方向性，主要用于清除表面积污、微观凸起及较浅线条，并具有强化表面的作用。但表面粗糙度仅能在原有基础上略有改善。S。Jung等人发现，通过先抛光后退火对ITO进行预处理，可改善表面粗糙度及氧含量，使用有机层同ITO接触界面更加光滑，OLED器件的发光效率和注入电流均提高了10倍左右，ITO表面的TPD层结晶状况也有所改变。 3.4 紫外臭氧处理 在真空室中安装波长为253.7nm的低压水银灯，将臭氧发生器和光解臭氧的紫外灯管放在内贴反光铝薄膜的圆筒内，以提高光能利用率。将3400V高电压加在臭氧发生器玻璃管外的金属网和管内芯柱所构成的两个放电电极，当真空室通过氧气时，流经金属网的部分氧分子分解成氧原子，并与其他氧分子碰撞产生臭氧分子。通过紫外线直接对有机物作用使有机物分解，这样不仅在表面形成了一层富氧层，而且去除了表面的碳污染。各种表面处理方法的比较如表1所示。 表 1 各种表面处理方法的比较 表面处理方法 面阻（Ω/□） 功函数（eV） 表面粗糙度（nm） 未处理 16.1 4.5 2.6 机械抛光 16.3 4.2 2.3 Ar等离子体 16.7/17.3/17.0 4.5 10.9/15.4/23.0 氧等离子体 16.4/15.0/16.4 4.35/4.75/4.65 1.4/1.4/2.1 王水 18.5/23.5/28.6 4.6/4.3/4.7 3.8/8.4/8.8 王水/氧等离子体 27.7 4.6 6.0 氧等离子体/王水 >30.0 4.7 1.8 HCL 26.3 4.54 1.3 4 结束语 通过上面的对比发现，使用机械抛光法能得到最光滑的ITO表面，氧等离子体处理能得到功函数最高的ITO表面，UV臭氧处理的ITO表面电阻率最低。只有通过结合使用多种方法才能得到最佳性能的ITO表面。 旭达超声 销售部：蒋 涛 手 机：13088890000 电 话：0755-27646704 传 真：0755-81792407 网 址//www.sundail.com.cn 地 址：深圳市、宝安区、石岩镇、光明路、华厦园工业区A幢 深圳市旭达超声有限公司关联词: 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